高真空磁控溅射设备

设备名称：高真空磁控溅射设备

设备厂家、型号：沈阳科诚 CK-450

负责教师：赵丹   联系方式：化材楼C336，电话：020-31137963 

功能指标：

设备共配备四台可摆头磁控靶，其中有三台普通靶，可镀非磁性材料，另配一台强磁靶，可用于镀磁性材料。设备样品台可升降、可旋转、可加热并配有偏压功能。

技术指标：

1、极限真空度: ≤6×10-5Pa(新设备空载)；

2、漏率为关机12小时≤10Pa（新设备空载，极限真空后关机）；

3、恢复工作真空时间：≤40min(新设备空载6×10-4Pa)；

样品注意事项：

确认靶材与靶台接触良好

使用注意事项：

开机时确认水压，气压正常。电离单元为易损部件，在电离单元工作时（有显示数字时， P 为关闭状态） 严禁往腔体里充气！每次充气前确认电离单元已关闭！

仪器地点：

化学材料综合楼C203

备注：