默克集团沉积材料研发总监Dr.Charles L.Dezelah: Molecules to Materials: An Industry Perspective on CVD and ALD Precursors

报告主题:Molecules to Materials: An Industry Perspective on CVD and ALD Precursors

报告人:Dr.Charles L.Dezelah

主持人:奚斌教授

时间:2018年8月3日上午9:30

地点:十友堂300室

欢迎广大师生参加!

报告摘要:

       本次报告将从化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)两个方面,综述前驱体材料的研究进展状况。结合ALD过程的工艺特点和膜层要求,强调在选择前驱体材料时,需要综合考虑材料的蒸汽压、反应性、化学稳定性等方面的因素。通过分析ALD的互补性和自限制性特点,介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势,特别是ALD技术在微纳器件中的应用进展,涉及半导体微纳集成电路、微纳光学器件等高新技术领域,对ALD技术当前存在的问题分析的同时展望其未来发展。

报告人简介:

       Dezelah博士现任职于半导体材料巨擘-德国默克集团,担任沉积材料研发总监。主要领导研究团队开发纳米尺度薄膜材料的先进沉积技术及前驱体制备,并实现其在高端半导体制造工艺先进制程中的应用。

Dezelah博士毕业于美国Wayne State University化学系,在化学气相沉积和原子层沉积技术领域有近20年的研究经历,在权威学术期刊发表多篇有影响力的文章,拥有数十项专利。曾任原子层沉积国际会议技术咨询顾问委员会委员和第十七届原子层沉积国际会议主席。

联系我们    |    友情链接    |    内部网